金融界 2024 年 11 月 13 日音问，国度学问产权局信息显露，上海西源新动力时代有限公司苦求一项名为“一种基于无机模板的中空 SiO2 纳米球基减反射膜及制备轮番”的专利，公开号 CN 118930069 A，苦求日历为 2024 年 9 月。

专利提要显露，本发明属于纳米材料边界，具体触及一种基于无机模板的中空 SiO2 纳米球基减反射膜及制备轮番。该制备轮番采工具有孔隙结构的 ZnS 纳米球当作模板，制备 ZnS‑SiO2 核壳结构纳米球并在玻璃基板上镀膜，通过酸刻蚀法去除 ZnS 核，获取里面具有自维持结构的中空 SiO2 纳米球涂层；然后在中空 SiO2 纳米球涂层上浸透一层酸性 SiO2 溶胶，高温下退火，获取里面具有自维持结构的中空 SiO2 纳米球和酸性 SiO2 复合的减反射膜。本发明的减反射膜在领有高透过率的同期，与基底粘附性高，且联系于其他中空 SiO2 所制备的涂层硬度更高，具有优异的耐磨性和持久性。

本文源自：金融界

作家：谍报员